大学院設置科目

セラミックプロセッシング特論

授業科目名 セラミックプロセッシング特論 (Advanced Course of Ceramic Processing)
開講時期 後学期 
単位数 2-0-0
担当教員 田中順三 教授、篠崎和夫 教授
連絡先

(田中)大岡山南7号館8階817号室(内線2519)tanaka.j.aa(a)m.titech.ac.jp [(a)は@と読み替える]
(篠崎) 大岡山南7号館8階611号室(内線2518) ksino(a)ceram.titech.ac.jp [(a)は@と読み替える]

講義のねらい

 セラミックスのもつ機能的な性質の多くは粒界・界面から発現しており,セラミックスの微構造を制御するセラミックスプロセッシングはますます重要になっている.本講義ではセラミックスの各研究分野の中でも比較的新しく,特にエレクトロセラミックスの分野で重要な役割を果たしつつあるセラミックス薄膜の合成とキャラクタリゼーションに注目し,セラミックス薄膜の成膜と界面の形成,および物性測定との関連について基礎的知識と最近の成果について述べる.

講義計画
  1. 序論・セラミックスの機能発現と界面
  2. セラミックス界面現象(I)
  3. セラミックス界面現象(II)
  4. 薄膜作製技術の概要(I)
  5. 薄膜作製技術の概要(II)
  6. 薄膜作製技術の概要(III)
  7. CVD法による薄膜作製(I)
  8. CVD法による薄膜作製(II),液相法による薄膜作製
  9. PVD法による薄膜作製(I):Sputter法
  10. PVD法による薄膜作製(II):PLD法
  11. 薄膜のキャラクタリゼーション(I) :薄膜X線解析
  12. 薄膜のキャラクタリゼーション(II) :TEM解析
  13. 薄膜のキャラクタリゼーション(III) :薄膜の組成分析(ESCA, XRF, ICP)
  14. 薄膜のキャラクタリゼーション(IV) :電気特性
成績評価

 クイズ,レポート,試験点で総合的に評価する.期末試験を実施.

テキスト等
 教科書
  特に指定しない
 参考書
  『薄膜工学ハンドブック』 真下他編 講談社サイエンティフィック(1998)
履修の条件

 物理化学と固体物性の基礎を学んでいること.

担当教官から一言

  最近の電子セラミックスでは界面現象の理解が重要となっている.セラミックスの利用形態にはバルク型と薄膜型とがあるが,薄膜では容積が非常に小さく,セラミックス部のほとんどが電極などとの界面を形成している.本講義では今後ますます重要となるセラミックス薄膜の科学と工学について学ぶ.

オフィスアワー

 特に設けないが,質問などは随時オフィスでも受け付ける.ただし,かならずe-mailか,電話で事前にアポイントメントを取ること.