設置科目とシラバス

セラミックプロセシング基専コア

授業科目名 セラミックプロセシング (Ceramic Processing)
推奨学期 4
単位数 2-0-0
担当教員 篠崎 和夫  准教授(無機材料)
連絡先 (篠崎)大岡山南7号館816号室(内線2518), ksino(a)ceram.titech.ac.jp <(a)は@と読み替える>
講義のねらい

  優れた機能をもったバルクセラミックスを製造する上で,極めて重要なセラミックプロセッシングについて解説する.セラミックスの製造方法とそれを支える物理化学,表面化学等との関連についても説明する.また,薄膜製造プロセスについても簡単に言及する.

講義計画
  1. イントロダクション
  2. セラミック粉体の合成 (1)
  3. セラミック粉体の合成 (2)
  4. セラミック粉体の合成 (3)
  5. 粉体の物理化学と評価 (1)
  6. 粉体の物理化学と評価 (2)
  7. 表面化学とレオロジー(1)
  8. 表面化学とレオロジー(2)
  9. セラミック粉体の成形 (1)
  10. セラミック粉体の成形 (2)
  11. 焼結 (1)
  12. 焼結 (2)
  13. ガラスのプロセッシング
  14. 薄膜プロセッシング
成績評価

  期末試験点,出席点,クイズ・レポート点等で総合評価.

テキスト等

  教科書:特に使用しない.
  参考書: 『セラミックスプロセッシング』 山口喬 柳田博明編 技報堂出版
  『セラミックス工学ハンドブック』 社団法人日本セラミックス協会編 技報堂出版
  「Ceramic Processing before Firing」:G.Y.Onoda, et al., A Wiley-Interscience (1978)
  「Surface and Colloid Chemistry in Advanced Cramics Processing」:R.J.Pugh et al., Dekkar (1994)
  「Introduction to Ceramics, second ed.」:W.D.Kingery et al., John Wiley & Sons (1976)
  セラミックス材料科学入門,小松他訳,内田老鶴圃(1980)

履修の条件

  

担当教員から一言

  諸君が研究に必要なサンプルを設計し作れるようになること,またその際に起きた現象を正しく理解できるようになることを目標にして講義する.

オフィスアワー

  オフィスアワーは特に設けないが,質問などは随時受け付ける.ただし電話、電子メール等で必ずアポイントメントを取ること.